机译:热线化学气相沉积法超快沉积氮化硅和半导体硅薄膜
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:六甲基二硅氮烷热线化学气相沉积法制备氢化非晶硅碳氮化物膜
机译:热线化学气相沉积反应器中柔性基板上薄硅膜沉积参数的优化
机译:通过热线化学气相沉积法在薄膜光伏应用中合成大晶粒多晶硅。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:氮化硅薄膜的热线化学气相沉积
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响